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5nm芯片无需光刻机 中国科技公司已申请制造专利
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近日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片
"中国光刻机工厂"遭网友疯传:官方揭开真相
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近日,网上疯传清华大学弯道超车,已经突破EUV光刻机项目,实现了光刻机的巨大化、工厂也已经在雄安新区落地。
10亿一台的EUV光刻机真卖不动了 ASML下调预期
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作为半导体制造中的核心装备之一,光刻机至关重要,7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产,售价达到10亿以上,不过今年EUV的势头熄火了,DUV光刻机需求反而暴涨。ASML公司日前发布了Q2季度财报,单季